提拉式长晶炉吴中螺杆真空泵维修/保养封头炉盖高度 15，籽晶转速范围：1～40rpm16，籽晶拉速范围：0.2～8mm/min17，籽晶快速：≥350mm/min18，籽晶在炉内有效行程：3500mm19，籽晶在副室内有效行程：2100mm20，坩埚升速范围：0.02～1mm/min21，坩埚快速：≥100mm/min22，坩埚在炉内有效行程：400mm23。籽晶在副室内有效行程：2100mm20，坩埚升速范围：0.02～1mm/min21，坩埚快速：≥100mm/min22，坩埚在炉内有效行程：400mm23。封头炉盖高度 15，籽晶转速范围：1～40rpm16，籽晶拉速范围：0.2～8mm/min17，籽晶快速：≥350mm/min18。晶体直径：￠6〞～￠8〞10，熔料量：90Kg11，主炉室尺寸：φ900× mm12。冷炉极限真空度：＜3Pa9翻板阀通径：φ280mm13籽晶在炉内有效行程：3500mm19坩埚转速范围：1～30rpm24主机重量：约7500Kg。

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3，监视能：电是眼睛看不见的，一台设备是否带电或断电，从外表看无法分辨，这需要设置各种视听信号，如灯光和音响等，对一次设备进行电气监视，4，测量能：灯光和音响信号只能定性地表明设备的工作状态（有电或断电），如果想定量地知道电气设备的工作情况，还需要有各种仪表测量设备，测量线路的各种参数，如电压，电流，频率和率的大小等。离子注入等手段，可以制成各种半导体器件。用硅片制成的芯片有着惊人的运算能力。科学技术的发展不断推动着半导体的发展。自动化和计算机等技术发展，使硅片（集成电路）这种高技术产品的造价已降到十分低廉的程度。这使得硅片已广泛应用于，工业，农业和 ，甚悄悄进入每一个家庭。硅片利用介绍硅片再利用是一种从中分离出来的有用物质经过物理或机械成为再利用的如废玻璃，废金属。通过对硅片进行光刻硅片是集成电路的重要材料硅片，废电池片的再利用指以将再次生产的方式。